Китайская компания Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) совершила технологический прорыв, научившись изготавливать 5-нанометровые микросхемы без применения современной литографии в экстремальном ультрафиолетовом спектре (EUV).
Об этом сообщает отраслевой аналитик Уильям Хуо в своей серии публикаций в соцсети X (ранее — Twitter).
По его словам, такая инновация может существенно изменить глобальный ландшафт производства полупроводников. Издание Gizmochina подчеркивает, что это достижение потенциально открывает Китаю дверь к большей технологической независимости.
Вместо EUV SMIC применяет традиционное DUV-оборудование (глубокий ультрафиолет), сочетая его с крайне сложным процессом под названием SAQP (Self-Aligned Quadruple Patterning — самовыравнивающееся четырехкратное шаблонирование). Это позволяет достичь точности, сравнимой с EUV, хоть и ценой значительно большей сложности производства.
Долгое время считалось, что изготовление микросхем на уровне 5 нм возможно исключительно благодаря дорогостоящим EUV-установкам, которые производит только нидерландская компания ASML. Вследствие технологических санкций со стороны США и их союзников китайские производители остались без доступа к таким передовым инструментам, и прогнозы аналитиков предсказывали, что КНР не сможет продвинуться дальше 7-нм техпроцесса.
Однако SMIC доказала обратное: путем многоэтапного наложения шаблонов, литографии и травления, в том числе с SAQP, инженеры добились 5-нм точности. Такой подход связан с более высокими затратами, более медленным производством и повышенным уровнем брака, но он реально работает — а это уже огромный прорыв.
Как отмечает Хуо, хотя DUV не является эталоном технологического прогресса, ее потенциала достаточно для реализации 90% задач, связанных с ИИ, 5G и массовым потребительским рынком. И Китаю совсем не обязательно достигать уровня Apple M3 — для него достаточно превзойти Qualcomm в определенных сегментах.
Аналитик также намекает на еще более амбициозные планы: по его словам, сейчас распространяются слухи о разработке 3-нм техпроцесса на основе SAOP (Self-Aligned Octuple Patterning — самовыравнивающееся восьмикратное шаблонирование).
«Да, это звучит безумно. Но теперь само безумие стало новой стратегией, — пишет Хуо, — Закон Мура не прекратил существование. Он просто переехал в Шанхай«.
